A Magnetron Sputtering (PVD) technológia az egyik kulcsfontosságú technológia a vékonyréteges anyagok előállításában. A nagy-tisztaságú titán porlasztási célanyagok kulcsfontosságú fogyóeszközök a magnetronos porlasztási folyamatban, és széles körű piaci alkalmazási kilátásokkal rendelkeznek. A nagy-értékű-hozzáadott bevonóanyagként a titán célanyagokra szigorú követelmények vonatkoznak a kémiai tisztaságra, a mikroszerkezetre és a teljesítményre vonatkozóan, valamint rendkívül technikai jellegűek és nehezen feldolgozhatók.
A mágneses porlasztó titán célanyagokat főként az elektronikai és információs iparban használják, például integrált áramkörökben, síkképernyős kijelzőkben és dekorációs bevonatok területén a lakásdekorációban és az autóiparban, mint például az üveg dekorációs bevonat és a kerékagy dekoratív bevonat, amint az 1. ábrán látható. A titán célanyagokkal szemben támasztott követelmények a különböző iparágakban, beleértve a szerkezetet, a tisztaságot, a mikrohegesztést is, nagyon eltérőek pontosság. Az integrált áramkörök titán célanyagainak tisztasága főként 99,995% felett van, jelenleg elsősorban importra támaszkodnak. A síkképernyős kijelzőkben használt titán célanyagok piacán a folyadékkristályos kijelzők (LCD) piaca a legnagyobb, több mint 90%-kal. Az LCD jelenleg a legígéretesebb lapos képernyős eszköz. Megjelenése nagymértékben kibővítette a kijelzők alkalmazási körét, a notebook számítógépek kijelzőitől, az asztali számítógép-monitoroktól, a nagy-felbontású LCD TV-ken át a mobilkommunikációig. Különféle új LCD-termékek befolyásolják az emberek életmódját, és a világ információs iparának gyors fejlődését mozdítják elő.
A titán célanyagok tisztasága jelentős hatással van a porlasztott filmek teljesítményére. Minél nagyobb a tisztaság, annál kevesebb a szennyezőelem-részecske a porlasztott titánfilmben, ami jobb filmteljesítményt eredményez, beleértve a jobb korrózióállóságot, valamint az elektromos és optikai tulajdonságokat. A titán célanyagok általában polikristályos szerkezetűek, szemcseméretük mikrométertől milliméterig terjed. A finom-szemcsés célanyagok gyorsabb porlasztási sebességgel rendelkeznek, mint a durva-szemcsés anyagok. A porlasztó felületen hasonló szemcseméretű célpontoknál a porlasztott lerakott film vastagságeloszlása is egyenletesebb.
